纳晶科技取得发光装置相关专利，发光装置无隔离结构分隔发光单元

6月27日消息，国家知识产权局信息显示，纳晶科技股份有限公司申请一项名为“发光装置、其制备方法以及包括发光装置的电子设备”的专利，授权公告号CN116193923B，授权公告日为2026年6月26日。申请公布号为CN116193923A，申请号为CN202111412971.3，申请公布日期为2026年6月26日，申请日期为2021年11月25日，发明人甄常刮、高远、彭军军、杜勇、顾辛艳，专利代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司，专利代理师刘倜，分类号H10K59/123、H10K59/124、H10K59/131、H10K71/00。

专利摘要显示，本公开涉及发光装置、其制备方法以及包括发光装置的电子设备。所述发光装置包括：第一基板；多个第一电极，位于第一基板之上；以及功能层的叠层，位于所述多个第一电极之上，所述叠层至少包括发光层，所述发光层包括多个彼此独立的单元，所述多个单元与相应的第一电极对应地设置，其中，在所述多个单元之间未设置有从第一基板或第一电极延伸至所述多个单元的高度或以上从而分隔所述多个单元的隔离结构。

天眼查数据显示，纳晶科技股份有限公司成立日期2009年8月10日，法定代表人袁宏林，所属行业为仪器仪表制造业，企业规模为小型，注册资本14076.4172万人民币，实缴资本14076.4172万人民币，注册地址为浙江省杭州市滨江区长河街道秋溢路428号3幢3楼。纳晶科技股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息82条，专利信息419条，拥有行政许可25个。

纳晶科技股份有限公司近期专利情况如下：

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